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OLED顯示器用大氣常壓等離子清洗設備應用
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發布時間：
2023-05-15
OLED顯示器用大氣常壓等離子清洗設備應用：
O2主要運用于反應有機物質的plasma氣體、Ar和等。在這當中，氬氣plasma的清洗方法通常是表面物理濺射。Ar離子在電場獲得足夠的能量轟擊表面，去除表面分子和原子，去除表面污染物，提高表面粘附功能，改變表面粗糖度。鑒于Ar是惰性氣體，不和材料表面反應，可以處理一些易氧化物質的表面。但是也有對表面造成極大的損傷和熱效應。
O2等離子體和H2等離子體具有活性化學性質，是等離子體清洗中典型的化學反應清洗。常壓等離子清洗設備能有效去除有機物，中性氧原子具有非?；钚缘幕瘜W性質，能迅速與有機污染反應，產生揮發性氣體（CO、CO2和H2O與物體表面分離，但該方法不適用于處理易氧化材料。H2等離子體通過活性H原子的還原，可以輕松去除金屬表面的氧化層，也可以與有機碳氧化合物反應產生揮發性物質，如CH4?；瘜W清洗的特點是速度快，選擇性好。
在包裝過程中，設備和材料表面的各種污染會明顯影響包裝生產和產品質量，常壓等離子清洗設備清洗技術，不受真空條件的限制，容易去除生產過程中形成的分子水平污染，顯著提高包裝的可靠性和產品成品率。它可以集成到自動生產線上，以清潔高一代和大尺寸的基板。
在生產過程中，光刻技術占很大比例。為了在基板上形成圖形化，需要使用大量的光刻膠。當光刻膠沉積在機器設備上時，不僅會影響設備的運行，還會加速設備的老化，需要定期清洗。常規清洗需要拆卸和組裝設備，非常不方便。常壓等離子噴槍的等離子射流可以很容易地處理一些難以到達的間隙。
常壓等離子清洗設備在OLED生產過程中起著非常重要的作用，但傳統的等離子體清洗機受到真空條件和腔容量的限制，不能處理大型基板和不規則部件。常壓等離子清洗設備突破了真空的限制，具有廣闊的發展前景。
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