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          等離子清洗設備通過高頻高壓產生的粒子的組成和應用?

          等離子清洗設備通過高頻高壓產生的粒子的組成和應用? ? ? ? ?如今工業與科技的飛速發展對材料的要求越來越高,這極大的帶動了材料表面改性技術的進步。其中,等離子清洗設備改性技術引入注目。等離子體作為物質的第四態,是指部分或*電離的氣體。而等離子體是指在直流電弧放電、輝光放電、微波放電、電暈放電、射頻放電等條件下所產生的部分電離氣體。在等離子體中包含有多種粒子,除了電離所產生的電子和離子以外,還有大量的中性粒子如原子、分子和自由基等,故粒子間的相互作用非常復雜,有電子-電子、電子-中性粒子、電子-離子、離子-離子、離子-中性分子、中性分子-中性分子等。在這樣復雜的物理體系中,由于電子、離子、激發原子、自由基的存在且相互作用,??赏瓿稍谄胀ㄇ闆r下難以完成的事。 ? ? ? 等離子清洗設備在材料表面改性的方法大致可分為以下4種情況:等離子體表面蝕刻、表面接枝、粘結和氣相沉積。plasma在高分子材料、金屬材料、塑料材料、有機材料、聚合物材料、生物醫用材料及紡織材料等諸多不同類型的材料中有著廣泛的應用,也有著明顯的應用優勢。

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